铜靶材现在广泛应用于电子、通信、超导、航天等领域，而且铜靶材价格低廉，使得其成为真空镀膜职业中的主力军。由于真空镀膜职业的限制，对铜靶材的尺度和形状要求严格，因此必须严格把关铜靶材出产工艺，下面就由北京瑞弛小编为您介绍一下铜靶材生产技术。
一、铜靶材加工方法
1、铸造法
将必定成分配比的合金质料熔炼，再将合金溶液浇注于模具中，构成铸锭，经机械加工制成靶材，铸造法在真空中熔炼、铸造。常用的熔炼方法有真空感应熔炼、真空电弧熔炼和真空电子炮击熔炼等，其长处是靶材杂质含量(特别是气体杂质含量)低，密度高，可大型化;缺陷是对熔点和密度相差较大的两种或两种以上金属，一般熔炼法难以获得成分均匀的合金靶材。
2、粉末冶金法
将必定成分配比的合金质料熔炼，浇注成铸锭后再破坏，将破坏构成的粉末经等静压成形，再高温烧结，终构成靶材，其长处是靶材成分均匀。缺陷是密度低，杂质含量高等，常用的粉末冶金工艺包含冷压、真空热压和热等静压等。
二、铜靶材加工注意事项
1、铜矿石的分类
炼铜的质料是铜矿石，铜矿石可分为三类。一是硫化矿如黄铜矿、斑铜矿和辉铜矿等。二是氧化矿如赤铜矿、孔雀石、硅孔雀石等。三是自然铜，铜矿石中铜的含量在1%左右的便有开采价值，选用浮选法能够把矿石中部分脉石等杂质除掉，而得到含铜量较高的精矿砂。
2、粗铜的提纯
粗铜再通过火法精粹或电解精粹而得到精铜。粗铜火度法精粹，直接出产含铜99.5%以粗铜火法精粹，直接出产含铜99.5%以上的精铜。该法仅适问用于金、银和杂质含量较低的粗铜，所产精铜仅用于对纯度要求不高的场答合。粗铜先通过火法精粹除掉部分杂质，浇粗铜先通过火法精粹除掉部分杂质，铸成阳极，再进行电解精粹，产出含铜99.95%以上，杂质含量到达标准的精铜属。
3、高纯度铜材要求
对变形处理后的高纯度铜资料进行机械加工，铜靶材加工要求精度高、表面质量高，加工成真空镀膜机所需的靶材尺度就能够了，铜靶材与镀膜机多以螺纹相连接。有了高纯度铜锭作为原资料，对原资料进行锻造、轧制、热处理等，使铜锭内晶粒变细小、致密度增加以满意溅射所需铜靶材的要求。
