溅射镀膜是最近发展起来的一种新的表面处理技术。表面处理技术能使材料的物理,机械和化学性能得到提高，而溅射镀膜比以往的真空镀膜具有“高速、低温”两个显著的特点.下面就让北京瑞弛的小编为大家分享一下关于溅射靶材的工艺都有哪些?
靶材形状：板材，圆片，矩形，方形，圆环，圆棒，台阶圆片，台阶矩形，三角形，管状靶，套靶等或按客户要求订做，可根据客户提供的图纸要求加工. 并可以为客户提供部分靶材的绑定服务.
参考尺寸:直径 ≦355.6mm (14英寸) ,长度≦1000mm ,宽度≦200mm ,厚度≦20mm
溅射靶材的工艺有哪几种?
溅射靶材的工艺主要用于溅射刻蚀和薄膜淀积两个方面。
淀积薄膜时，溅射源置于靶极，受氩离子轰击后产生溅射。假如靶材是单质的，则在衬底上生成靶极物质的单质薄膜;若在溅射室内有意识地引入反应气体，使之与溅出的靶材原子发生化学反应而淀积于衬底，便可形成靶极材料的化合物薄膜，一般，制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接进行溅射而得。
溅射刻蚀时，被刻蚀的材料置于靶极位置，受氩离子的轰击进行刻蚀。刻蚀速率与靶极材料的溅射产额、离子流密度和溅射室的真空度等因素有关。溅射刻蚀时，应尽可能从溅射室中除去溅出的靶极原子。常用的方法是引入反应气体，使之与溅出的靶极原子反应生成挥发性气体，通过真空系统从溅射室中排出。
