铌靶材主要应用于光学镀膜、表面工程材料镀膜及耐热、耐腐蚀高导电等镀膜行业。在光学镀膜领域，主要应用于眼科光学产品、镜头、精密光学、大面积镀膜、3D镀膜等方面。
铌靶材通常称为裸靶，首先将其与铜背靶进行焊接，然后进行溅射，将铌原子以氧化物形式淀积在基板材料上，实现溅射镀膜。随着铌靶材技术与应用的不断深入与拓展，对铌靶材的组织均匀性要求提高，主要表现在晶粒尺寸细化、无明显织构取向和化学纯度提高三个方面。
整靶组织性能分布均匀，这对保证铌靶材的溅射性能至关重要。工业生产中遇到的铌靶材表面通常会出现规律性纹路，这会大大影响靶材的溅射性能，我们该如何提高靶材利用率呢？
经研究发现，杂质含量（靶材纯度）是影响纯度的重要原因。原材料的化学成分不均，杂质富集，经过后期的轧制加工，形成铌靶材表面有规律的纹路; 消除原材料成分分布不均和杂质富集，可避免铌靶材表面有规律纹路的形成。而晶粒大小跟组织成分对靶材的影响几乎是可以忽略不计的。
