硅溅射靶材是由高纯度硅制成的用于溅射镀膜工艺的原材料,硅溅射靶材具有高纯度特点,纯度可达 99.999% 及以上。物理性质稳定,...
阅读详情有部分客户询问硅靶材的相关知识,现在由北京瑞弛技术部同事为大家解析一下硅靶材。...
阅读详情东莞国际模具、金工、塑料、包装展览会是香港纸业传播展览服务品牌知名度最高、行业影响力最大的展会。成立20多年来,依托珠江三角...
阅读详情关于溅射靶材的一些应用知识和原理技术,之前有一些客户咨询过北京瑞弛的小编,现在就针对大家比较关心的这个问题,由北京瑞弛技术部...
阅读详情最近很多用户咨询溅射镀膜技术的优缺点的问题,根据广大客户的要求,现在北京瑞弛技术部专家就为大家分享一下,希望可以解决大家的问...
阅读详情靶材磁控溅射的堆积率也便是堆积的速率,是指堆积物对可容空间充填的速度。溅射堆积率不仅是成膜速度的一个重要参数,也是对靶材成膜...
阅读详情磁控溅射原理:在被溅射的靶极(阴极 与阳极之间加一个正交磁场和电场,溅射靶材在高真空室中充入所需要的惰性气体(一般为Ar气 ...
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阅读详情不知道大家对于靶材中毒现象是否有了解,靶材中毒之后会有哪些反应呢?下面北京...
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