产品详细参数如下：
产品类别 | 合金靶材 |
产品简称 | CrSi |
产品全称 | Chrome silicon |
产品纯度 | 99.9%，99.95%，99.99% |
产品形状 | 平面靶，柱状靶，电弧靶，异型靶 |
生产工艺 | Vacuum Melting，PM |
最大尺寸 | L≤1000mm，W≤200mm |
铬硅合金靶材产品详情：
铬硅靶材是由高纯硅、铬熔炼铸造得到的中间合金，再精细破碎成粉，经过仔细的混粉，包套，抽真空，热等静压得到CrSi锭坯，经过机械加工得到客户需要的产品。
铬硅电阻薄膜是指一种常用的高阻薄膜材料。具有电阻率高、稳定性好、电阻温度系数小等特点。Cr和Si可以生成多种硅化物如Cr3Si , Cr5Si3, , CrSi , CrSi2等，铬硅电阻薄膜的性能与制备工艺、膜的成分、热处理工艺等密切相关。控制硅化物结构，可得到各种电性能材料。
北京瑞弛高科技有限公司专业提供铬硅靶材，可以根据客户要求定制，如需要更多的信息，敬请联系我们。
