产品详细参数如下：
产品类别 | 合金靶材 |
产品简称 | CoNbZr |
产品全称 | Cobalt niobium zirconium |
产品纯度 | 99.9%，99.95%，99.99% |
产品形状 | 平面靶，柱状靶，电弧靶，异型靶 |
生产工艺 | Vacuum Melting |
最大尺寸 | L≤200mm，W≤200mm |
钴铌锆合金靶材产品详情：
钴铌锆靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是由高纯钴、铌、锆经过高真空熔炼得到铸坯，再经加工得到的产品，具有特定的尺寸和形状的高纯钴铌锆材料，安装在真空镀膜机上，溅射成膜。CoNbZr合金靶材溅射得到的纳米晶磁性薄膜，与多晶态薄膜，主要是钴Co，钴铁CoFe和坡莫合金NiFe三种磁性薄膜，其中的非磁性隔离层是铜Cu等贵金属材料形成的三明治膜层，具有极薄的总体厚度(10nm左右)，较大的磁阻效应(10%以上)，稳定的单畴态，优越的翻转特性，翻转场均匀性偏差<8%，是生产RAM、MRAM等存储器件的重要的膜层材料。
北京瑞弛高科技有限公司提供钴铌锆靶材，可以根据客户要求定制，如需要更多的信息，敬请联系我们。
