产品详细参数如下:
产品类别 | 合金靶材 |
产品简称 | CrSi |
产品全称 | Chrome silicon |
产品纯度 | 99.9%,99.95%,99.99% |
产品形状 | 平面靶,柱状靶,电弧靶,异型靶 |
生产工艺 | Vacuum Melting,PM |
最大尺寸 | L≤1000mm,W≤200mm |
铬硅合金靶材产品详情:
铬硅靶材是由高纯硅、铬熔炼铸造得到的中间合金,再精细破碎成粉,经过仔细的混粉,包套,抽真空,热等静压得到CrSi锭坯,经过机械加工得到客户需要的产品。
铬硅电阻薄膜是指一种常用的高阻薄膜材料。具有电阻率高、稳定性好、电阻温度系数小等特点。Cr和Si可以生成多种硅化物如Cr3Si , Cr5Si3, , CrSi , CrSi2等,铬硅电阻薄膜的性能与制备工艺、膜的成分、热处理工艺等密切相关。控制硅化物结构,可得到各种电性能材料。
北京瑞弛高科技有限公司专业提供铬硅靶材,可以根据客户要求定制,如需要更多的信息,敬请联系我们。