现在社会上越来越多的用户都了解了靶材的种类以及靶材的用途，如果是细分的话，可能不会清楚的区分具体的靶材类型，现在就让北京瑞弛的小编来和大家一起分享一下关于磁控溅射靶材的类型介绍!
溅射靶材：金属溅射镀膜靶材，合金溅射镀膜靶材，陶瓷溅射镀膜靶材，硼化物陶瓷溅射靶材，碳化物陶瓷溅射靶材，氟化物陶瓷溅射靶材 ，氮化物陶瓷溅射靶材 ，氧化物陶瓷靶材，硒化物陶瓷溅射靶材 ，硅化物陶瓷溅射靶材 ，硫化物陶瓷溅射靶材 ，碲化物陶瓷溅射靶材 ，其他陶瓷靶材，掺铬一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO)，磷化铟靶材(InP)，砷化铅靶材(PbAs)，砷化铟靶材(InAs)。
磁控溅射一般分为二种：直流溅射和射频溅射，其中直流溅射设备原理简略，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电资料外，也可溅射非导电的资料，溅射靶材一起还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物资料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，目前常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。
