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多晶硅靶材是一种重要的溅射靶材资料,运用磁控溅射办法制备SiO2等薄膜层,可以使基体资料具有更好的光学、介电及抗蚀性能,被广泛应...
溅射钛靶材与金属钛都是由钛元素组成的,所以资料基本相同,但它俩的差异首要在于金属钛能够作为原资料出产钛靶材,而钛靶材只能是一种被...
磁控溅射原理:在被溅射的靶极(阴极 与阳极之间加一个正交磁场和电场,溅射靶材在高真空室中充入所需要的惰性气体(一般为Ar气 ...