靶材便是高速荷能粒子炮击的方针资料。金属靶材般是由高纯金属制成。高纯铝靶材便是工业上常用的耙材中的种。关于金属靶材，般要求外表需求数控加工，越润滑越好。溅镀后的模压盘片可以在播放器上读出，为确保读出信号的强度，需求溅镀金属层的反射率到达80%。
靶材首要使用在ITO导电玻璃、DWDM(高密度多工分配器)、CD-R、CD-RW、DVD、EMI(抗电磁波干扰)、OLED、磁性资料、感测元件、压电资料、硬化膜、高温超导等产品上。靶材首要有金属类、合金类、氧化物类等等。
现在，只要中、美、日本、德和法等少量家具有制造溅射靶材的技能。因而在球范围内靶格行业还在处于种垄断性十分强的时期。
近年来我电子信息产业飞速开展,集成电路、光盘及显示器出产线均有大量合资或资企业出现,我已逐渐成为了世界上膜靶材的大需求区域之。但迄今为止, 日本和德是世界上从事靶材出产的先进家，中大量高功能靶材仍从外进口。因为内靶材产业的滞后开展,现在中靶材商场很大部分被外公司占。跟着微电子等高科技产业的高速开展,中的靶材商场将日益扩大,为中靶材制造业的开展提供了机遇和应战。
靶材的技能开展趋势与下游使用产业的膜技能开展趋势休戚相关，跟着使用产业在膜产品或元件上的技能改善，靶材技能也应随之改变。
现在，高的靶材朝超大尺度方向开展，首要有以下两个原因：
(1)因为次溅射镀膜过程所出产的器材数量，与靶材的尺度成平方联系。因而，靶材愈大，器材出产的本钱越低，产品竞争力越强。这是电子、平板显示器、太阳能电池板出产企业不断追求的方针。
(2)因为单个平板显示器、太阳能电池板等面积越来越大，需求的靶材尺度也越大，才干满足膜功能的均匀致性。因为靶材尺度越来越大，对靶材的出产设备、制备技能、靶材结构、及靶材功能要求也越来越高。如要求靶材的密度更高，成份更纯、结构均匀性更好等,资金投入也更大。
因为溅射镀膜的过程中，致密度较小的溅射靶受炮击时，因为靶材内部孔隙内存在的气体突然释放，形成大尺度的靶材颗粒或微粒飞溅，或成膜之后膜材受二次电子炮击形成微粒飞溅。这些微粒的出现会下降器材中膜质量。如在VLSI制造工艺过程中，每150mm 直径硅片所能答应的微粒数必须小于30 个。
因而大尺度靶材的密度要求更高。一起，靶材溅射时，靶材中的原子容易沿着密排面方向择优溅射出来，资料的结晶方向对溅射速率和溅射膜层的厚度均匀性影响较大。因而，关于大尺度靶材，取得安排结构细腻、均匀性好的靶材结构对解决上述问题至关重要。但要在大尺度靶材中取得这样优良安排结构，存在较大的难度，需求对以往的出产制备设备和技能进行改善。因而，超大尺度靶材的出产实施，关于进步我的靶材制备水平，进步器材的质量和竞争力至关重要。
