什么是靶材
靶材就是目标资料。用于高能激光武器中,不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时,会发生不同的杀伤破坏效应。用于物理镀膜中的溅镀,主要有金属靶材和陶瓷靶材。
什么是溅射靶材
磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方法,较之较早点的蒸腾镀膜方法,其很多方面的优势适当显着。作为一项已经发展的较为老练的技能,磁控溅射已经被应用于许多范畴。
靶材应用领域
1:微电子范畴
2:平面显示器用靶材
3:存储技能用靶材
靶材资料的技能发展趋势与下流应用 工业的薄膜技能发展趋势息息相关,随着应用工业在薄膜产品或元件上的技能改进,靶材技能也应随之变化。如Ic制造商.近段时刻致力于低电阻率铜布线的开发, 预计未来几年将大幅度替代原来的铝膜,这样铜靶及其所需阻挡层靶材的开发将刻不容缓。别的,近 年来平面显示器(F P D)大幅度替代原 以阴极射线管(CRT)为主的电脑显示器及电视机商场.亦将大幅增 加ITO靶材的技能与商场需求。此外在存储技能方面。
溅射靶材主要应用于电子及信息工业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜范畴;还能够应用于耐磨资料、高温耐蚀、高级装饰用品等职业。