随着社会的发展，现在越来越多的人们已经多多少少的了解了溅射靶材这个产品，但是对于这个产品的使用方法有的还是不是特别清楚的，现在就让北京瑞弛的小编来为大家分享一下，关于磁控溅射靶材的使用方法都有哪些?
磁控溅镀操作方法
由垂直的电场和磁场的结合组成。因为电磁的交互作用，促进电子集中于靶材邻近，以提升离子化效应.
1、磁场会使负极表面形成电子的集合处，离子会因受限的电子源的静电效应而集合。
2、电子能有用集合于靶材的表面，使离子化效率提高并提高溅镀速率。
磁控溅射靶材的优点与缺陷
磁控溅镀虽会添加溅镀速率，相对地，亦会加速靶材的损耗。因为基材与电浆间的距离较大，使基材较远离电浆可在低的工作温度进行溅镀。
