大家都知道溅射靶材的规格有很多，而且应用领域也很广泛，不同领域常用的靶材种类也有所不同，今天咱们就来和北京瑞弛的小编一起学习一下溅射靶材应用领域分类的相关知识!
一、溅射靶材的定义
溅射是制备薄膜材料的主要技术之一，它利用离子源产生的离子，在真空中经过加速聚集，而形成高速度能的离子束流，轰击固体表面，离子和固体表面原子发生动能交换，使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面，被轰击的固体是制备溅射法沉积薄膜的原材料，称为溅射靶材。
二、溅射靶材应用领域分类
1、半导体用靶材
(1)常用靶材：该领域常用的靶材包含钽/铜/钛/铝/金/镍等高熔点金属。
(2)用途：主要用于集成电路的关键原材料。
(3)性能要求：对于纯度、尺寸、集成度等的技术要求较高。
2、平面显示器用靶材
(1)常用靶材：该领域常用的靶材有铝/铜/钼/镍/铌/硅/铬等。
(2)用途：这类靶材多用于电视、笔记本等各型大面积膜层。
(3)性能要求：对于纯度、大面积、均匀性等要求较高。
3、太阳能电池用靶材
(1)常用靶材：太阳能电池常用铝/铜/钼/铬/ITO/Ta等靶材。
(2)用途：主要用于“窗口层”、阻挡层、电极与导电膜等场合。
(3)性能要求：技术要求高，应用范围比较广。
4、信息存储用靶材
(1)常用靶材：信息存储常用钴/镍/铁合金/铬/碲/硒等材料的靶材。
(2)用途：这类的靶材主要用于光驱与光盘的磁头、中间层、底层。
(3)性能要求：对于高储存密度、高传输速度的要求较高。
5、工具改性用靶材
(1)常用靶材：工具改性常用钛/锆/铬铝合金等靶材。
(2)用途：通常做表面强化用。
(3)性能要求：性能要求较高，使用寿命长。
6、电子器件用靶材
(1)常用靶材：电子器件常用铝合金/硅化物靶材
(2)用途：一般用于薄膜电阻与电容。
(3)性能要求：尺寸小、稳定性、电阻温度系数小。
