铌靶材主要应用于光学镀膜、表面工程材料镀膜及耐热、耐腐蚀高导电等镀膜行业。在光学镀膜领域,主要应用于眼科光学产品、镜头、精密光学、大面积镀膜、3D镀膜等方面。
铌靶材通常称为裸靶,首先将其与铜背靶进行焊接,然后进行溅射,将铌原子以氧化物形式淀积在基板材料上,实现溅射镀膜。随着铌靶材技术与应用的不断深入与拓展,对铌靶材的组织均匀性要求提高,主要表现在晶粒尺寸细化、无明显织构取向和化学纯度提高三个方面。
整靶组织性能分布均匀,这对保证铌靶材的溅射性能至关重要。工业生产中遇到的铌靶材表面通常会出现规律性纹路,这会大大影响靶材的溅射性能,我们该如何提高靶材利用率呢?
经研究发现,杂质含量(靶材纯度)是影响纯度的重要原因。原材料的化学成分不均,杂质富集,经过后期的轧制加工,形成铌靶材表面有规律的纹路; 消除原材料成分分布不均和杂质富集,可避免铌靶材表面有规律纹路的形成。而晶粒大小跟组织成分对靶材的影响几乎是可以忽略不计的。