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溅射镀膜铌靶材表面产生纹路的原因

时间:2023-10-10 作者:北京瑞弛 点击:833次

铌靶材主要应用于光学镀膜、表面工程材料镀膜及耐热、耐腐蚀高导电等镀膜行业。在光学镀膜领域,主要应用于眼科光学产品、镜头、精密光学、大面积镀膜、3D镀膜等方面。

铌靶材

铌靶材通常称为裸靶,首先将其与铜背靶进行焊接,然后进行溅射,将铌原子以氧化物形式淀积在基板材料上,实现溅射镀膜。随着铌靶材技术与应用的不断深入与拓展,对铌靶材的组织均匀性要求提高,主要表现在晶粒尺寸细化、无明显织构取向和化学纯度提高三个方面。

整靶组织性能分布均匀,这对保证铌靶材的溅射性能至关重要工业生产中遇到的铌靶材表面通常会出现规律性纹路,这会大大影响靶材的溅射性能,我们该如何提高靶材利用率呢?

经研究发现,杂质含量(靶材纯度)是影响纯度的重要原因。原材料的化学成分不均,杂质富集,经过后期的轧制加工,形成铌靶材表面有规律的纹路; 消除原材料成分分布不均和杂质富集,可避免铌靶材表面有规律纹路的形成。而晶粒大小跟组织成分对靶材的影响几乎是可以忽略不计的。


标签: 镀膜

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