溅射钼靶材因其本身优点，已经在电子行业、太阳能电池、玻璃镀膜等方面得到了广泛的使用。随着现代科技微型化、集成化、数字化、智能化的快速发展，钼靶材的用量将持续增长，对其质量要求也必将越来越高。所以就需要想办法提高钼靶材利用率，现在北京瑞弛的小编为大家介绍几种提高溅射钼靶材的利用率的方法。
反面加电磁线圈
想提高溅射钼靶材的利用率，可以在平面的磁控溅射钼靶材的反面加上一圈电磁线圈，经过增加电磁线圈的电流来增大钼靶材外表的磁场，以提高钼靶材的利用率。
选用管状旋转靶材
与平面靶材相比，选用管状旋转靶材结构就凸显出它的实质性优势，一般平面靶材的利用率仅为30%~50%，而管状旋转靶材的利用率则可以达到80％之上。不仅如此，使用旋转空心圆管磁控溅射靶时，由于靶材可绕固定的条状磁铁组件一直旋转，所以在它的外表不会产生重沉积现象，所以一般旋转靶的寿命要比平面靶材高5倍不止。
更换新式溅射设备
提高靶材利用率的关键在于完成溅射设备的更新换代。钼溅射靶材在溅射进程中靶材原子被氢离子撞击出来后，约六分之一的溅射原子会淀积到真空室内壁或支架上，增加清洁真空设备的费用及停机时间。所以更换新式溅射设备也有助于提高溅射钼靶材的利用率。
